簡要描述：

日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20
一種行業(yè)標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應(yīng)用。
F20基于光學(xué)干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。

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詳細介紹

日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20

主要特點

支持廣泛的膜厚范圍（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長范圍（190nm 至 1700nm）
強大的膜厚分析
光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊的外殼
支持在線測量

一種行業(yè)標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應(yīng)用。
F20基于光學(xué)干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊，因此可以通過PLC或上位機進行控制。

主要應(yīng)用

平板半導(dǎo)體光學(xué)鍍膜薄膜太陽能電池醫(yī)療的

單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學(xué)膜等。

抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等

防反射膜、硬涂層等

CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等

鈍化、藥物涂層等

產(chǎn)品陣容

模型F20-UVF20F20-近紅外F20-EXRF20-UVX測量波長范圍膜厚測量范圍性*測量光斑直徑光源


190 – 1100nm	380 – 1050nm	950 – 1700nm	380 – 1700nm	190 – 1700nm
1nm – 40μm	15nm – 70μm	100nm – 250μm	15nm – 250μm	1nm – 250μm
± 0.2% 薄膜厚度		± 0.4% 薄膜厚度	± 0.2% 薄膜厚度
1納米	2納米	3納米	2納米	1納米
支持高達1.5 毫米或 0.5 毫米小 0.1 毫米（可選）
氘· 鹵素	鹵素			氘· 鹵素

* Filmometry 提供的測量 Si 基板上的 SiO2 膜時器件主體的精度。

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